真空镀膜机膜厚的不均匀性怎么处置？

膜厚的不均匀性：不管监控仪精度如何，它也只能操控真空室里单点方位的膜厚，通常来讲是工件架的中间方位。假如此方位的膜厚不是肯定均匀的，那么远离中间方位的基片就无法得到均

匀的厚度。尽管屏蔽罩能消除体现为长时间的不均匀性，但有些膜厚度的改变是由蒸发源的不稳定或膜材的不一样体现而导致的，所以几乎是不可能消除的，但对真空室的布局和蒸发源的恰中选

择可以使这些影响最小化。

在曩昔几年中，越来越多的用户需求镀膜体系制作厂家供给高功能的小标准、简洁型光学镀膜体系，一起，用户对功能的需求不只没有下降，反而有所提高，特别是在薄膜密度和确保吸水后

光谱改变最小化等方面。如今，体系的均匀尺度标准现已在下降，而使用小标准机进行光学镀膜的出产也现已转变变成纯技能问题。因而，选用现代化光学镀膜体系的要害取决于对以下

素的仔细思考：即，对镀膜商品的预期功能，基片的尺度巨细和物理特性以及确保高度一致性技能所必需的一切技能要素。

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