介绍站立式真空蒸腾镀膜机

真空镀膜机主要由镀膜室、真空体系、电控体系等有些组成。而立式真空蒸腾镀膜机的镀膜室布局主要由室体、球面行星转变基片架、基片烘烤设备、E型枪蒸腾源、膜厚丈量晶体、挡板等构件组成。室体可选用钟罩式或前开门式布局。钟罩式室体一般用于较小的镀膜设备（直径不大于500mm），前开门式室体一般用于较大的镀膜设备。室体上均设置有观察窗。

基片烘烤设备的加热元件可选用电阻加热器、远红外加热管或碘钨灯等加热元件。依据镀膜技术的需求，断定烘烤温度规模及其加热功率。

e型枪蒸腾源固定在室体底板上，而且使其坩埚内的膜材蒸腾平面基本上与球面基片架坐落同一球面上，以便确保膜厚均匀。

挡板坐落坩埚上方，由镀膜室外部的操作手柄使其遮挡膜材蒸汽流或移开挡板进行蒸镀。挡板的效果是为了进步膜层纯度，避免高蒸汽压杂质蒸镀到基片上。

膜层丈量晶体是石英晶体测厚仪的传感器，能够完成镀膜进程的实时膜厚丈量。当前在制备光学膜的镀膜机中。一般选用单色仪、测厚仪、光源及测验玻片组合而成的学光测厚体系。以测验玻片的膜厚表征基片膜厚，用单色仪接收到的光束信号完成膜厚的实时丈量。

为了习惯镀膜技术的灵敏性要求，在许多该类型的镀膜机中除了设置e型枪蒸腾源外，还装备了电阻加热式蒸腾源。

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